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微纳米加工技术及其应用

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崔铮 / 高等教育出版社 / 2020-10 / 其他

售价 34.00 2.6折

定价￥129.00

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图书 > 自然科学
微纳米加工技术及其应用
作者: 崔铮

出版社: 高等教育出版社

出版时间: 2020-10

版次: 4

ISBN: 9787040543025

定价: 129.00

装帧: 其他

开本: 16开

纸张: 胶版纸

页数: 564页

字数: 670千字
内容简介：

本书集作者多年来的实践经验与研究成果，综合介绍微纳米加工技术的基础，包括光学曝光技术、电子束曝光技术、聚焦离子束加工技术、扫描探针加工技术、微纳米尺度的复制技术、各种沉积法与刻蚀法图形转移技术、间接纳米加工技术与自组装纳米加工技术等。第四版在内容上反映了集成电路芯片加工技术的进步，不论是对初次涉足这一领域的大专院校的本科生或研究生，还是对已经有一定工作经验的专业科技人员，都具有很好的参考价值。

作者简介：

: 崔铮，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员。1988年于东南大学博士毕业，1989-2009年先后在英国剑桥大学微电子中心与英国卢瑟福国家实验室微结构中心工作，担任首席科学家与微系统技术中心负责人。2009年回国全职加入中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，创建了国内首个印刷电子技术研究中心。10年来，该中心已研发成功多种可印刷电子材料与多项印刷电子制造技术，在印刷无机薄膜晶体管、柔性透明导电膜、柔性有机发光与光伏、柔性拉伸可穿戴电子等领域获得广泛应用。领衔研发的“混合印刷纳米银金属网栅柔性透明导电膜”已实现大规模量产，并成功应用于国内外商业化触摸屏产品。在国际期刊发表论文250余篇；出版中英文专著8部；申请专利60项，其中“图形化柔性透明导电膜及其制法”获中国专利金奖。

目录：

章绪论

1.1微纳来技术与微纳米加工技术

1.2微纳米加工的基本过程与分类

1.3本书的内容与结构

参文献

第2章光学曝光技术

2.1引言

2.2光学曝光方式与

2.2.1掩模对准式曝光

2.2.2掩模投影式曝光

2.3光学曝光的工艺过程

2.4光刻胶的特

2.4.1光刻胶的一般特

2.4.2正光刻胶与负光刻胶的比较

2.4.3化学放大胶

2.4.4特殊光刻胶

……

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