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作者:
陆卫,宋艳汝 编
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出版社:
上海科学技术出版社
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ISBN:
9787547870440
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出版时间:
2025-03
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装帧:
平装
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开本:
16开
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ISBN:
9787547870440
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出版时间:
2025-03
售价
￥
91.97
5.2折
定价
￥178.00
品相
全新
上书时间2026-07-06
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商品描述：
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作者简介
"陆卫
上海科技大学教授，上海科技大学物质科学与技术学院执行院长、中国空间科学学会副理事长。曾任中国科学院红外物理国家重点实验室主任和中国科学院上海技术物理研究所所长。曾于 1996 年获国家杰出青年基金资助，并主持国家自然科学基金委创新群体项目和国家重大科研仪器研制项目 ( 部门推荐 )。研究方向为光电子材料与器件及其相关凝聚态物理、光子晶体及其光电技术中的应用。获得国家自然科学二等奖、国家技术发明奖二等奖、求是杰出青年科学家奖等诸多奖项。在Science 等国际学术学术期刊上发表论文 300 余篇，授权国家发明专利 40 多项，出版《半导体量子器件物理》等专著 2 部。
宋艳汝
上海科技大学材料器件中心助理主任、技术负责人、
副研究员。从事超导光电探测器及超导工艺技术研发。
入选 2020 年上海市浦江人才计划、 2024 年上海市科委探索者计划， 获得 2022—2023 年上海市大型科学仪器设施“共享服务（技术类）先进个人”称号、2024 年全国光学与光学工程博士生学术联赛“全国百强导师”称号、2024 年上海市浦东新区明珠计划“明珠工程师”称号。在 Nature Communication、 Physical Review Letter、 Light:Science & Applications 等国际学术期刊上发表论文数十篇，授权国家发明专利近 10 项。主讲量子材料与微纳器件制造技术等实践类集成电路先进工艺制造等课程。"
目录
第1章 集成电路的发展与现状
1.1集成电路概况
1.1.1集成电路的概念
1.1.2集成电路的分类
1.1.3芯片及其分类
1.1.4芯片、集成电路与半导体的关系
1.2集成电路的发展
1.2.1 真空管
1.2.2 电子管的应用——门电路
1.2.3晶体管
1.2.4集成电路
1.3集成电路的制造
1.3.1芯片制造模式.
1.3.2芯片制造流程
1.4中国集成电路产业的现状
1.4.1 集成电路产业链分析
1.4.2集成电路产业结构及规模
1.4.3集成电路产业链的发展现状
第2章 光刻技术
2.1光刻流程概况
2.2气相成底膜
2.2.1气相成底膜的作用
2.2.2工艺规范
2.2.3HMDS烘箱
......
内容摘要
集成电路是现代电子技术的核心，随着集成电路产业迅猛发展，对专业人才的需求正急剧上升。本书从集成电路制造的工艺、设备、厂务3个关键内容出发，融合了集成电路制造的理论基础和前沿实践技术，深入浅出地探讨了集成电路制造的全过程。通过大量工艺设备的使用案例分析、实验数据、设备操作标准程序和教学实践视频，帮助读者掌握实际操作。此外，在介绍当前主流制造技术的同时，还深入讲解了产业界量产设备的基本原理、动力需求和应用实践，使读者理解产业界量产设备与科研设备的区别。 上海科技大学材料器件中心聚焦集成电路先进制造领域卓越工程师的人才培养任务，依托先进一流的设备资源、资深工程师团队，联合产业界专家，将集成电路先进
主编推荐
"本书是理论学习与实践操作之间的桥梁，对于集成电路领域，特别是专业人才的培养具有重要的价值。
1) 工艺、设备与厂务技术的有机结合：覆盖了集成电路制造过程中的关键技术、设备与厂务动力配套，详细介绍了芯片生产的各个环节。
2) 强实践：具有大量案例分析和实践视频等，强调实践技能的训练。
3) 先进设备的介绍：不仅详细介绍了当前主流的制造技术，还对产业界的量产设备（如步进式光刻机）进行了全方位介绍，使读者能够领略到产业界所使用的光刻机与科研设备之间的区别。
4) 协作性：汇聚了产学研用多方的力量，不仅有来自上海科技大学的学术支持，还有众多产业界专家的实践经验分享，内容权威。"
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