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唐伟忠 著 / 冶金工业出版社 / 2003-01 / 平装
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上书时间2022-10-16
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薄膜材料制备原理技术及应用
本书以薄膜材料为中心,系统地介绍了薄膜技术中常用的真空技术基础知识,各种物理和化学气相沉积技术和方法,薄膜材料的形核及生长理论,薄膜材料微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微观结构和成分的表征方法等。在此基础上,本书还有选择地讨论了薄膜材料在力学、光电子学、磁学等领域的典型应用实例,其中涉及各种机械防护涂层、金刚石膜、光电子器件、集成光学器件、磁记录及光记录介质材料等技术。
本书可作为高等学校材料、物理及相关专业本科生、研究生及老师的教学参考书,也可供从事薄膜材料制备、研究的工程技术人员参考
1薄膜制备的真空技术基础1.1气体分子运动论的基本概念1.2气体的流动状态和真空抽速1.3真空泵简介1.4真空的测量参考文献2薄膜的物理气相沉积(Ⅰ)——蒸发法2.1物质的热蒸发2.2薄膜沉积的厚度均匀性和纯度2.3真空蒸发装置参考文献3薄膜的物理气相沉积(Ⅱ)——溅射法及其他PVD方法3.1气体放电现象与等离子体3.2物质的溅射现象3.3溅射沉积装置3.4其他物理气相沉积方法参考文献4薄膜的化学气相沉积4.1化学气相沉积反应的类型4.2化学气相沉积过程的热力学4.3化学气相沉积过程的动力学4.4CVD薄膜沉积过程的数值模拟4.5化学气相沉积装置4.6等离子体辅助化学气相沉积技术参考文献5薄膜的生长过程和薄膜结构5.1薄膜生长过程概述5.2新相的自发形核理论5.3薄膜的非自发形核理论5.4连续薄膜的形成5.5薄膜生长过程与薄膜结构5.6非晶薄膜5.7薄膜结构5.8薄膜的外延生长5.9薄膜中的应力和薄膜的附着力参考文献6薄膜材料的表征方法7薄膜材料及其应用
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开播时间:09月02日 10:30