薄膜材料制备原理、技术及应用(第2版) 冶金工业出版社 唐伟忠
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7502430970
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出版时间:
2020-01
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装帧:
平装
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开本:
32开
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ISBN:
9787502430979
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出版时间:
2020-01
上书时间2022-06-08
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商品描述：
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商品参数
薄膜材料制备原理、技术及应用(第2版)
定价
28.00
出版社
冶金工业出版社
版次
1
出版时间
2003年01月
开本
32
作者
唐伟忠
装帧
页数
0
字数
0
ISBN编码
9787502430979
内容介绍
本书以薄膜材料为中心，系统地介绍了薄膜技术中常用的真空技术基础知识，各种物理和化学气相沉积技术和方法，薄膜材料的形核及生长理论，薄膜材料微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微观结构和成分的表征方法等。在此基础上，本书还有选择地讨论了薄膜材料在力学、光电子学、磁学等领域的典型应用实例，其中涉及各种机械防护涂层、金刚石膜、光电子器件、集成光学器件、磁记录及光记录介质材料等技术。 本书可作为高等学校材料、物理及相关专业本科生、研究生及老师的教学参考书，也可供从事薄膜材料制备、研究的工程技术人员参考
目录
1 薄膜制备的真空技术基础
1.1 气体分子运动论的基本概念
1.2 气体的流动状态和真空抽速
1.3 真空泵简介
1.4 真空的测量
参考文献
2 薄膜的物理气相沉积（Ⅰ）——蒸发法
2.1 物质的热蒸发
2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度
2.3 真空蒸发装置
参考文献
3 薄膜的物理气相沉积（Ⅱ）——溅射法及其他PVD方法
3.1 气体放电现象与等离子体
3.2 物质的溅射现象
3.3 溅射沉积装置
3.4 其他物理气相沉积方法
参考文献
4 薄膜的化学气相沉积
4.1 化学气相沉积反应的类型
4.2 化学气相沉积过程的热力学
4.3 化学气相沉积过程的动力学
4.4 CVD薄膜沉积过程的数值模拟
4.5 化学气相沉积装置
4.6 等离子体辅助化学气相沉积技术
参考文献
5 薄膜的生长过程和薄膜结构
5.1 薄膜生长过程概述
5.2 新相的自发形核理论
5.3 薄膜的非自发形核理论
5.4 连续薄膜的形成
5.5 薄膜生长过程与薄膜结构
5.6 非晶薄膜
5.7 薄膜结构
5.8 薄膜的外延生长
5.9 薄膜中的应力和薄膜的附着力
参考文献
6 薄膜材料的表征方法
7 薄膜材料及其应用
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