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  • 科学技术发展简史 王士舫,董自励 第4版 北京大学出版社

科学技术发展简史 王士舫,董自励 第4版 北京大学出版社

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  • 作者: 
  • 出版社:    北京大学出版社
  • ISBN:    9787301254653
  • 出版时间: 
  • 版次:    1
  • 装帧:    平装
  • 开本:    16开
  • 纸张:    胶版纸
  • 页数:    496页
  • 字数:    99999千字
  • 作者: 
  • 出版社:  北京大学出版社
  • ISBN:  9787301254653
  • 出版时间: 
  • 版次:  1
  • 装帧:  平装
  • 开本:  16开
  • 纸张:  胶版纸
  • 页数:  496页
  • 字数:  99999千字

售价 ￥ 14.00 2.5折

定价 ￥56.00 

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    • 商品分类：
      教材教辅考试 > 教材 > 大学教材 > 工程技术
      货号：
      9787301254653
      商品描述：
      基本信息
      书名:科学技术发展简史
      定价：56.0元
      作者:王士舫,董自励
      出版社：北京大学出版社
      出版日期：2015-06-01
      ISBN：9787301254653
      字数：528000
      页码：496
      版次：4
      装帧：平装
      开本：16开
      商品重量：
      编辑推荐
      科学技术发展史相关课程的理想教材，全新修订第四版，紧贴科技发展现状！
      内容提要
      本书按照古代、近代和现代的历史顺序，简要介绍了两千多年来中外科学技术发展的主要成就，涵盖了上自天文，下至地理，从无机界到有机界，从微观到宇观，从理论到实践各个领域所取得的重大成果，包括重大的科学发现和具有重大的或划时代意义的技术发明，展示了人类科学技术发展史的波澜画卷。本书原则上遵循厚今薄古的原则，突出了现代部分，密切跟踪科技发展的前沿，对当今世界关注的热点问题，如能源问题、海洋问题等做了重点阐述，对生命科学、纳米技术、3D打印技术等也都做了概述。本书是作者在对三十多年来所搜集的资料进行归纳整理、分析综合的基础上编辑而成的，内容编排合理，观点明确，逻辑结构严谨，资料翔实准确，语言通俗易懂。读者不仅可以从中汲取丰富的知识营养，扩大知识面，拓宽视野，而且可以发展发散思维，受到启迪，净化心灵，提高科学和道德素养水平。本书是 一部信息量大、引人入胜、常读常新、读后必有所获的高级科普读物，是一本不可不读的好书。
      目录

      作者介绍
      王士舫，中国人民解放军电子工程学院基础部教授，已退休；董自励，中国人民解放军电子工程学院基础部副教授，已退休。
      序言

      配送说明

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