全新正版图书 计算光刻与版图优化/集成电路技术丛书/大学研究生数学辅导书系列韦亚一电子工业出版社9787121402265 集成电路工艺电子束光刻本科及以上
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作者:
韦亚一[等]著
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出版社:
电子工业出版社
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ISBN:
9787121402265
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出版时间:
2021-01
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作者:
韦亚一[等]著
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出版社:
电子工业出版社
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ISBN:
9787121402265
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上书时间2023-04-20
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光刻是集成电路制造的核心技术,光刻工艺成本已经超出集成电路制成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中,只有光刻工艺可以在硅片上产生图形,从而完成器件和电路三维结构的制造。计算光刻被公认为是一种可一步提高光刻成像质量和的有效手段。基于光刻成像模型,计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化,对掩模上图形的形状和尺做修正,还可以从工艺难度的角度对设计版图提出修改意见,终保证光刻工艺有足够的分辨率和。本书共7章,首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍,接着介绍集成电路物理设计(版图设计)的全流程,然后介绍光刻模型、分辨率技术、刻蚀效应修正、可制造性设计,后介绍设计与工艺协同优化。
本书内容紧扣技术节点集成电路制造的实际情况,涵盖计算光刻与版图优化的发展状态和未来趋势,系统介绍了计算光刻与刻蚀的理论,论述了版图设计与制造工艺的关系,以及版图设计对制造良率的影响,讲述和讨论了版图设计与制造工艺联合优化的概念和方,并结合具体实施案例介绍了业界的具体做法。本书不仅适合集成电路设计与制造领域的从业者阅读,而且适合高等院校微电子相关专业的本科生、研究生阅读和参考。
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