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十四年老店
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- 1202326672
- 品相描述:全新
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- 光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术,详细介绍了本团队提出的系列新技术,涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术,包括初级像质参数、波像差偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主,也介绍了投影物镜的离线像质检测技术,涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。本书适用于从事光刻机研究与应用的科研与工程技术人员,可作为高等院校、科研院所相关领域的科研人员、教师、研究生与本科生的参考书。同时,可为现代光学精密检测、光学成像等领域的科技人员、研究生和高等院校的本科生提供参考。
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