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计算光刻与版图优化
举报电子、电工 本书由中科院微电子研究所计算光刻科研团队韦亚一博士、粟雅娟博士、董立松博士、张利斌博士、陈睿博士、赵利俊博士撰写,系统、全面地介绍了集成电路制造中的计算光刻与版图优化的理论、关键技术、可制造设计和设计工艺协同优化。适值我国很好芯片技术及产业遭受他国“围堵”之际,本书出版正当时。本书不仅适合集成电路研究、设计、制造的从业者阅读,还适合高等院校微电子相关专业的本科生、研究生阅读和参考。
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上书时间2023-02-11
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