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全新正版图书计算光刻与版图优化/集成电路技术丛书/大学研究生数学辅导书系列韦亚一电子工业出版社9787121402265 黎明书店

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正版图书保证质量七天无理由退货让您购物无忧

作者: 韦亚一[等]著
出版社: 电子工业出版社
ISBN: 9787121402265
出版时间: 2021-01

版次: 1
装帧: 平装
开本: 16开

作者: 韦亚一[等]著
出版社: 电子工业出版社
ISBN: 9787121402265

出版时间: 2021-01
版次: 1

装帧: 平装
开本: 16开

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定价￥79.00

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工程技术

货号：

R_10817053

品相描述：全新

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光刻是集成电路制造的核心技术，光刻工艺成本已超出集成电路制成本的三分之一。在集成电路制造的诸多工艺单元中，只有光刻工艺可以在硅片上产生图形，从而完成器件和电路三维结构的制造。计算光刻被公认为是一种可一步提高光刻成像质量和的有效手段。基于光刻成像模型，计算光刻不仅可以对光源的照明方式做优化，对掩模上图形的形状和尺做修正，还可以从工艺难度的角度对设计版图提出修改意见，终保证光刻工艺有足够的分辨率和。本书共7章，首先对集成电路设计与制造的流程做简要介绍，接着介绍集成电路物理设计（版图设计）的全流程，然后介绍光刻模型、分辨率技术、刻蚀效应修正、可制造性设计，后介绍设计与工艺协同优化。
本书内容紧扣技术节点集成电路制造的实际况，涵盖计算光刻与版图优化的发展状态和未来趋势，系统介绍了计算光刻与刻蚀的理论，论述了版图设计与制造工艺的关系，以及版图设计对制造良率的影响，讲述和讨论了版图设计与制造工艺联合优化的概念和方，并结合具体实施案例介绍了业界的具体做法。本书不仅适合集成电路设计与制造领域的从业者阅读，而且适合高等院校微电子相关专业的本科生、研究生阅读和参考。
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