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  • 《气相沉积应用技术》

《气相沉积应用技术》

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  • 作者: 
  • 出版社:   机械工业出版社
  • ISBN:   9787111200659
  • 出版时间: 
  • 作者: 
  • 出版社:  机械工业出版社
  • ISBN:  9787111200659
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品相 九五品

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上书时间2011-06-08

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    综合性图书
    商品描述:
    此套资料包含2套内容,全套共计270元,包含运费第一套资料:《气相沉积应用技术》出版社最新出版图书第二套资料:《各种气相沉积设计加工生产工艺技术汇编》光盘,包含以下目录所对应内容,几乎涵盖了所有这方面的内容,全部汇总在一起;图书介绍 目录如下:序1. 序2 前言 第1篇气相沉积技术基础及各种气相沉积技术 第1章气相沉积技术概述 1气相沉积技术分类 2气相沉积技术特点 3气相沉积技术应用 第2章化学气相沉积技术 1绪言 2化学气相沉积物理化学基础 2.1CVD反应方式 2.2CVD反应条件 2.3CVD反应过程 3化学气相沉积热力学分析 4化学气相沉积反应物质源 4.1气态物质源 4.2液态物质源 4.3固态物质源 5化学气相沉积涂层质量影响因素 5.1沉积温度 5.2沉积室压力 5.3反应气体分压(配比) 6化学气相沉积装置 6.1CVD装置基本构成 6.2负压CVD装置主要性能简要说明 7高温化学气相沉积技术 7.1HT—CVDD硬质涂层种类和性能 7.2HT—CVD工艺技术 8中温化学气相沉积(MT—CVD)技术 8.1MT—CVD反应机理 8.2MT—CVD工艺过程及设备 8.3MT—CVD沉积TiCN涂层组织结构及特性 8.4高性能涂层材料及其沉积工艺技术 8.5高性能涂层硬质合金刀具组织结构及特性 参考文献 第3章物理气相沉积技术 1物理气相沉积技术概论 1.1物理气相沉积分类 1.2物理气相沉积的特点 2物理气相沉积技术基础 2.1物理气相沉积相关的真空物理基础 2.2低温等离子体物理基础 3物理气相沉积技术 3.1真空蒸发镀 3.2离子镀 3.3电子枪蒸发源二极型离子镀 3.4热阴极离子镀 3.5射频离子镀 3.6集团离子束离子镀 3.7活性反应离子镀 3.8空心阴极离子镀 3.9热丝弧枪离子镀 3.10电弧离子镀 3.11磁控溅射镀 3.12离子束及其在气相沉积方面的应用 参考文献 第4章等离子体增强化学气相沉积技术 1等离子体增强化学气相沉积技术机理 2等离子气体产生过程及性质 2.1多原子分子具有平动.旋转和振动自由度 2.2分解 2.3电离 3等离子体化学反应过程 4等离子体增强化学气相沉积装置 5等离子体增强化学气相沉积工艺过程及特点 5.1PECVD211艺过程 5.2PECVDI艺特点 5.3采用直流脉冲PECVD技术是硬质涂层的主要发展方向 6等离子体增强化学气相沉积涂层组织特征 6.1等离子体增强化学气相沉积涂层类型 6.2等离子体增强化学气相沉积涂层组织特征 参考文献 第5章气相沉积设备 1化学气相沉积设备系统 1.1CVD涂层设备系统主要技术指标 1.2CVD涂层设备系统各部分功能及设计要求 1.3典型生产用CVD涂层设备 2等离子体增强低温化学气相沉积设备 2.1直流脉冲电源特性 2.2等离子体增强化学气相沉积设备 3物理气相沉积设备及配套系统 3.1真空室 3.2真空获得与真空泵 3.3进气系统 3.4真空测量 3.5气相沉积技术中的电源 参考文献 第6章预处理主要辅助设备 1清洗 2刃口强化 2.1刃口强化作用 2.2刃口强化工艺及设备 3喷砂 参考文献 第7章膜层质量测试 1膜层质量测试内容 2性能检验 2.1膜层硬度测量 2.2膜层厚度测量 2.3膜层附着力测试 2.4膜层内应力测试 3膜层的微区检测 3.1显微组织形貌分析 3.2膜层的晶体结构分析 3.3膜层成分分析 参考文献 第2篇气相沉积技术应用领域 第1章气相沉积技术在硬质涂层中的应用 1硬质涂层制品在机械工业中的应用 1.1机械工业发展对涂层工具.模具性能的要求 1.2硬质涂层工具的作用 1.3涂层工模具所占市场份额 2新型硬质涂层的发展趋势 2.1新的金属陶瓷硬质涂层 2.2多元复合涂层 2.3多层复合涂层 2.4纳米复合涂层 2.5纳米晶.非晶复合涂层 2.6非金属超硬涂层 3硬质涂层制品应用 3.1硬质涂层切削工具的应用 3.2硬质涂层模具及耐磨损.耐腐蚀零件应用 4不同硬质涂层的实用沉积工艺技术 4.1硬质合金刀具典型CVD实用工艺技术 4.2高速钢刀具PVD实用工艺技术.. 4.3模具PECVD实用工艺技术 5非金属超硬涂层沉积技术 5.1金刚石涂层的沉积技术及应用 5.2立方氮化硼涂层的沉积技术及应用 5.3氮化碳涂层气相沉积技术及应用 5.4纳米级涂层和纳米超硬多层 复合涂层沉积技术及应用 参考文献 第2章气相沉积技术在防护涂层方面的应用 1防护涂层的作用 1.1防护涂层性能 1.2获得防护涂层的方法 1.3用气相沉积技术获得防护涂层的独特性 2耐腐蚀涂层 2.1防腐涂层的种类 2.2气相沉积技术耐腐蚀层的应用领域 2.3防腐蚀层的气相沉积技术 3热障涂层 3.1热障涂层的组成 3.2热障涂层的气相沉积技术 参考文献 第3章气相沉积技术在光学薄膜领域中的应用 1光学薄膜的应用领域 1.1光学薄膜的应用范围 1.2光学薄膜的功能 2光学薄膜特性 2.1在不同媒质界面上光的反射 2.2减反膜(增透膜) 2.3反射膜 2.4截止滤光片 2.5选择吸收膜 3光学薄膜的气相沉积技术 3.1减反膜(增透膜)的沉积工艺 3.2反射膜的沉积工艺 3.3选择吸收膜的沉积工艺 4光学防伪薄膜 4.1防伪技术的现状与薄膜防伪技术的发展 4.2防伪膜的基本理论 4.3整膜防伪膜的设计与工艺举例 4.4碎膜防伪技术要点 参考文献 第4章气相沉积技术在建筑镀膜玻璃方面的应用 1建筑镀膜玻璃的功能 2普通玻璃的光学性能 3镀膜玻璃的遮阳隔热原理 3.1阳光控制膜 3.2低辐射率膜 3.3阳光控制膜和低辐射率膜的材料 4智能窗玻璃 4.1智能窗玻璃的应用 4.2智能窗玻璃的种类 4.3各种智能薄膜变色的机制 4.4智能窗玻璃薄膜的沉积工艺 5防雾防露和自清洁玻璃 5.1防雾防露和自清洁玻璃的功能 5.2光催化机理 5.3防雾防露和自清沽玻璃的沉积工艺 参考文献 第5章气相沉积技术在太阳能利用领域的应用 1太阳能——取之不尽的能源 2太阳能光一热转换 2.1太阳光谱选择性吸收 2.2太阳能的光.热转换能效薄膜 2.3太阳能集热器 2.4太阳光谱选择吸收薄膜的沉积技术 2.5太阳能热水器合成 3气相沉积技术在太阳能光.伏转换领域中的应用 3.1太阳能光.电转换 3.2太阳能光一电转换薄膜 3.3太阳能光一电转换薄膜的沉积技术 4太阳能电池的应用实例 参考文献 第6章气相沉积技术在集成电路制造中的应用 1集成电路高集成化发展方向 1.1集成电路在高新技术中的应用 1.2集成电路的高集成化 2集成电路类型 2.1集成电路 2.2分立器件电路 3集成电路组成 3.1有源器件——包括晶体管的器件 3.2无源元件 4集成电路加工工艺 4.1氧化工艺 4.2刻蚀.光刻工艺 4.3掺杂.离子注入 4.4互连布线的沉积和刻蚀 5分立器件电路的加工 5.1薄膜电阻器 5.2薄膜电容器 5.3薄膜网络器件 5.4薄膜温度传感器 5.5薄膜气敏传感器 5.6高温超导薄膜 5.7发光器件 参考文献 第7章气相沉积技术在信息显示器件中的应用 1信息显示器件的应用 2信息显示器件的种类 2.1阴极射线管(CRT) 2.2平板显示器 3平板显示器件用薄膜 3.1各种平板显示器的工作原理及相关薄膜 3.2平板显示器薄膜的气相沉积技术 参考文献 第8章气相沉积技术在信息存储领域的应用 1信息存储技术的进展 2信息存储的类型与存储薄膜 2.1磁信息存储 2.2磁光信息存储 2.3全光信息存储 3超高密度信息存储材料 3.1科学技术发展进入了纳米电子器件新时代 3.2超高密度信息存储材料 4纳米区内电荷存储技术 参考文献 第9章气相沉积技术在装饰饰品上的应用 1装饰品给人们五彩缤纷的生活 1.1装饰件底材 1.2装饰薄膜种类 2金属基材装饰膜的沉积 2.1金属基材装饰品的应用领域 2.2金属基材制件对装饰膜层的要求 2.3金属件装饰膜的沉积工艺 3塑料件装饰膜的沉积 3.1塑料镀膜的应用领域 3.2塑料制品对装饰膜层的要求 3.3塑料制品装饰膜的真空镀膜工艺 3.4塑料镀膜中的底漆.面漆 4真空卷绕镀膜技术 4.1真空卷绕镀膜技术应用领域 4.2真空卷绕镀膜技术的设备分类 4.3真空卷绕镀膜设备的结构特征 4.4真空蒸发卷绕镀膜设备的组成 4.5真空磁控溅射卷线镀膜设备结构 4.6泡沫塑料镀镍 参考文献...光盘内容介绍 目录如下:401. 200880114793 金属化合物、含有其的化学气相沉积用原料以及含有金属的薄膜的制造方法  402. 200810226975 基于物理气相沉积的碲纳米线阵列的制备方法  403. 200810207874 一种大面积微波等离子体化学气相沉积装置  404. 200810041864 双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备  405. 200810022011 一种用于制备飞机碳刹车盘的化学气相沉积炉  406. 200880104097 通过化学气相沉积制备纳米复合材料的方法  407. 200880101661 通过干法真空气相沉积制造多层薄膜的方法  408. 200810201589 一种金银币模具表面的耐磨物理气相沉积涂层及制备方法  409. 200880106034 化学气相沉积反应器  410. 200810220198 用于化学气相沉积(CVD)的基板处理设备  411. 200810187341 结合物理气相沉积及电着沉积的制作方法  412. 200810187237 一种采用物理气相沉积方法镀覆纳米银的抗菌防臭鞋  413. 200880100825 大气压等离子体增强化学气相沉积方法  414. 200880100645 真空气相沉积材料的多用途载体及其方法  415. 200810306514 化学气相沉积系统  416. 200810246565 一种化学气相沉积低温生长ZnS设备和工艺  417. 200810240986 一种阻止小磁体在气相沉积薄膜过程中产生凸起的方法  418. 200810239404 一种去除正面化学气相沉积层二氧化硅膜的方法  419. 200810228478 一种物理气相沉积加热系统过流保护装置  420. 200810227177 等离子体气相沉积方法  421. 200810202700 应用于钨化学气相沉积工艺的气体传输系统  422. 200880024436 用于等离子体增强的化学气相沉积和斜边蚀刻的系统  423. 200880024356 利用等离子体增强化学气相沉积来制造高机械性能的极低K膜的新型硅前驱物  424. 200810224591 常压气相沉积制备氧化锡纳米线的方法  425. 200810059497 金属有机化学气相沉积制备膨润土负载TiO*催化剂的方法  426. 200880009829 含硅和碳的阻挡层的卷到卷等离子体增强化学气相沉积方法  427. 200810222116 一种等离子体增强式化学气相沉积处理方法  428. 200810118737 金属有机物化学气相沉积装置  429. 200810041181 化学气相沉积的预处理方法  430. 200810133679 物理气相沉积镀膜的装置及其方法  431. 200880007682 利用一步金属有机化学气相沉积工艺制备Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ2化合物薄膜的方法  432. 200820007088 化学气相沉积系统的多片式活动电镀车台  433. 200820038476 用于制备飞机碳刹车盘的化学气相沉积炉  434. 200810141422 气相沉积制备掺杂单晶氧化锌纳米螺丝刀的方法及其装置  435. 200820153029 多重气流金属有机物化学气相沉积设备的反应腔体  436. 200820160180 光伏组件规模制造用等离子体化学气相沉积真空设备  437. 200810022195 光伏组件规模制造用等离子体化学气相沉积真空设备  438. 200810020872 一种局部加热化学气相沉积装置及方法  439. 200880006171 等离子体增强化学气相沉积腔室背板强化  440. 200810067872 制作渐变色薄膜的物理气相沉积工艺及镀膜设备  441. 200810110795 气相沉积系统  442. 200810108773 操作化学气相沉积室的方法  443. 200880003141 在衬底上形成含金属层的气相沉积方法  444. 200820123067 化学气相沉积设备及其晶舟  445. 200820214492 一种化学气相沉积炉尾气排放电磁阀自清洗装置  446. 200810027829 薄膜电晶体之化学气相沉积制作流程及其预沉积层构造  447. 200820073011 一种等离子体化学气相沉积进气装置  448. 200810107492 制造气相沉积用工艺气体的方法及其装置  449. 200810033761 一种ECR微波等离子化学气相沉积带钢镀膜工艺及装置  450. 200820218830 物理气相沉积加热系统过流保护装置  451. 200820152147 双腔交替式非晶硅光伏薄膜化学气相沉积设备  452. 200810178790 用于等离子体化学气相沉积反应器的喷淋板电极  453. 200810176342 化学气相沉积设备  454. 200810177922 有机金属化学气相沉积反应器  455. 200810161408 用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件  456. 200810130759 承座及其制造方法以及具有该承座的化学气相沉积装置  457. 200810081741 化学气相沉积的碳化硅制品  458. 200810128960 用于平面显示器的化学气相沉积装置  459. 200810103467 气相沉积制备四氧化三锰纳米线的方法  460. 200810109261 用于化学气相沉积的金属前体溶液  461. 200810127354 用于通过气相沉积工艺制造光纤预制件的方法  462. 200810131848 使用高密度等离子体化学气相沉积来沉积薄膜的方法  463. 200820011459 一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板  464. 200810125813 执行等离子体化学气相沉积的装置和制造光学预制件的方法  465. 200810094500 用于平面显示器的化学气相沉积装置  466. 200810089798 用于平板显示器的化学气相沉积设备  467. 200810089769 用于等离子体增强型化学气相沉积工艺的等离子体感应电荷损坏的控制  468. 200810106055 一种复合粘结层材料及其采用电镀与电子束物理气相沉积组合制备复合粘结层的方法  469. 200810088179 含硅膜的等离子体增强周期化学气相沉积  470. 200810085664 用作化学气相沉积的前体的有机硅组合物的纯化方法  471. 200910208833 化学气相沉积装置及其喷头  472. 200910181458 一种卷对卷等离子体增强化学气相沉积装置  473. 200910195836 物理气相沉积设备的清洗方法  474. 200980118333 使用共形等离子体增强化学气相沉积(PECVD)膜来缩减关键尺寸的方法  475. 200980116944 在化学气相沉积反应器中用于配气的系统和方法  476. 200980115817 用于射频物理气相沉积的处理套组  477. 200980114396 氧化锌的金属有机化学气相沉积  478. 200910228693 一种用于硅薄膜电池陷光结构研究的物理气相沉积设备  479. 200980101398 等离子增强化学气相沉积的方法及系统  480. 200910060206 金属有机物化学气相沉积进液装置  481. 200980107144 具有在晶片表面的各向同性离子速度分布的源的物理气相沉积方法  482. 200910027837 一种多喷淋头的化学气相沉积反应室结构  483. 200910086629 反应腔室及化学气相沉积设备  484. 200910085892 加热腔室及等离子体增强化学气相沉积装置  485. 200910052992 多反应腔金属有机物化学气相沉积设备  486. 200910051270 电磁场辅助的金属有机物化学气相沉积  487. 200920254333 一种化学气相沉积金刚石或其它物质的装置  488. 200920094712 一种等离子体化学气相沉积设备的运载小车  489. 200920094711 一种等离子体化学气相沉积设备的电池挂片箱  490. 200910132412 脉冲加热多匣式化学气相沉积p-i-n镀膜装置  491. 200910049171 气相沉积设备反应腔的加热系统  492. 200920095019 一种等离子体化学气相沉积设备中的进气控制装置  493. 200920076138 化学气相沉积机台及其遮蔽框架  494. 200920255496 等离子体增强化学气相沉积设备  495. 200920211681 化学气相沉积设备  496. 200920094718 一种等离子体化学气相沉积生产线机械传动装置  497. 200920094717 一种等离子体化学气相沉积设备后的太阳能电池冷却装置  498. 200920094716 一种等离子体化学气相沉积前的太阳能电池加热装置  499. 200920094715 一种能自行降温的等离子体化学气相沉积仓室  500. 200920072231 集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备  501. 200920217261 用于化学气相沉积的等离子炬  502. 200920177505 等离子体增强化学气相沉积PECVD小车识别系统  503. 200910157011 一价铜化合物及使用该类化合物进行化学气相沉积制备铜薄膜的方法  504. 200910218082 ZnO基薄膜晶体管的金属有机化学气相沉积制备方法  505. 200920110399 一种气相沉积炉气路连接装置  506. 200910232921 一种矩形化学气相沉积反应器  507. 200910075864 一种化学气相沉积金刚石或其它物质的装置  508. 200910211405 用于化学气相沉积工艺的机台  509. 200920008308 等离子体辅助化学气相沉积装置  510. 200910209159 一种等离子加强化学气相沉积设备  511. 200910167914 一种a面ZnO薄膜的单源化学气相沉积制备方法  512. 200920029240 一种多晶硅化学气相沉积装置  513. 200910170785 设计为用于气相沉积系统中的阱  514. 200910075519 用于化学气相沉积的等离子炬  515. 200920072232 电磁场辅助的金属有机物化学气相沉积设备  516. 200920070253 气相沉积设备反应腔的加热装置  517. 200910065097 气相沉积制备二氧化锡纳米带的方法和装置  518. 200920154796 有机金属化学气相沉积装置  519. 200910043471 化学气相沉积碳与气相渗硅工艺联合制备SiCf/SiC复合材料的方法  520. 200910045950 化学气相沉积制备掺硼导电金刚石薄膜方法  521. 201020581144 衬底支撑基座和应用该衬底支撑基座的化学气相沉积设备  522. 201020547566 用于化学气相沉积设备中的气体墙结构  523. 201020292479 一种C/C平板化学气相沉积分气系统  524. 201010590983 用于化学气相沉积设备的装载室  525. 201010531294 一种有机硅烷在聚二甲基硅氧烷表面的气相沉积方法  526. 201010294728 有机金属化学气相沉积装置和方法  527. 201020540460 非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备  528. 201020187774 等离子体化学气相沉积连续生产装置  529. 201010603983 利用添加N2O气体化学气相沉积金刚石单晶的方法  530. 201010591718 任意尺寸底板及显示屏的气相沉积荫罩板系统及其方法  531. 201010144220 多重气体耦合金属有机物化学气相沉积设备反应腔体  532. 201010608306 冷腔壁条件下化学气相沉积制备石墨烯的方法  533. 201010530714 化学气相沉积设备及其冷却箱  534. 201010293669 多晶硅薄膜低温物理气相沉积装置及其方法  535. 201020526602 一种等离子体增强化学气相沉积炉  536. 201010278401 用于化学气相沉积设备的气体喷射单元  537. 201010274873 能够控制反应室内的排放流体流动路径的化学气相沉积装置  538. 201010238929 化学气相沉积装置以及基板处理装置  539. 201010236459 半导体处理用的成批化学气相沉积方法及装置  540. 201010553710 等离子体增强化学气相沉积装置  541. 201010553706 一种化学气相沉积装置及其喷头组件  542. 201010551488 等离子体增强化学气相沉积装置  543. 201010536810 用于化学气相沉积设备的装载室  544. 201010520834 一种多步物理气相沉积设备  545. 201020246378 一种化学气相沉积工艺腔晶片传送装置  546. 201010504602 化学气相沉积炉  547. 201010296332 用于化学气相沉积设备中的气体墙结构  548. 201010212691 真空气相沉积装置  549. 201010278693 等离子体化学气相沉积基座温度控制方法  550. 201010217597 真空气相沉积设备  551. 201010212677 真空气相沉积设备  552. 201010518075 物理气相沉积涂层前的焊接刀具的处理工艺  553. 201010279719 一种等离子体增强化学气相沉积炉  554. 201020161728 用于物理气相沉积设备的报警装置  555. 201010269018 一种用于金属有机物化学气相沉积设备的进气喷头结构  556. 201010206412 镍催化原位化学气相沉积制备碳纳米管/镁复合粉末的方法  557. 201010199043 基于金属氧化物气相沉积铁电动态随机存储器及制备方法  558. 201010195683 等离子体化学气相沉积设备的载板传输控制方法及系统  559. 201020109723 一种用于金属有机化学气相沉积设备的喷雾器  560. 201010225093 等离子体增强化学气相沉积装置  561. 201020001072 等离子体增强化学气相沉积设备  562. 201010212449 大面积平板式等离子体增强化学气相沉积系统  563. 201010168209 减小由物理气相沉积生成的镀膜中的压力  564. 201010139762 一种等离子气相沉积方法  565. 201010197842 一种化学气相沉积金刚石装置  566. 201010169884 使用含硅前驱物和原子氧进行高质量流体状硅氧化物的化学气相沉积  567. 201010162506 一种化学气相沉积装置  568. 201010141024 采用金属源化学气相沉积技术制备掺杂氧化锌的方法  569. 201010136233 一种螺旋波等离子体增强化学气相沉积装置  570. 201010000839 等离子体增强化学气相沉积设备与玻璃板装载方法  571. 201010017134 金属有机化学气相沉积生长GaN基发光晶体膜的方法  572. 201010300532 超重力流态化气相沉积反应装置  温馨提示:我们可提供各类技术,因篇幅限制不能全部列出,若没找到你要的技术资料,可联系客服提供!

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