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  • 蚀刻液制造配方工艺技术大全

蚀刻液制造配方工艺技术大全

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  • 作者: 
  • 出版社:   国防工业出版社
  • 出版时间: 
  • 印刷时间:   2014
  • 装帧:   精装
  • 作者: 
  • 出版社:  国防工业出版社
  • 出版时间: 
  • 印刷时间:  2014
  • 装帧:  精装

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  • 商品分类:
    综合性图书
    商品描述:
    全套资料包含书籍+光盘,共两个部分,详情请咨询客服人员,服务电话:15225768106,客服QQ:1650765654
    第一部分:《正版图书——金属蚀刻工艺及实例》出版社最新出版图书 
    图书介绍 目录如下: 
    第1章 金属蚀刻工艺设计
    1.1 工艺相关知识
    1.1.1 工艺概述
    1.1.2 工艺流程
    1.1.3 典型工艺
    1.1.4 金属蚀刻工艺的特点
    1.1.5 工艺流程的组成
    1.1.6 产品技术标准与工艺设计的关系
    1.1.7 金属蚀刻工艺的发展
    1.2 金属蚀刻工艺设计概述
    1.2.1 工艺设计
    1.2.2 工艺设计的原理
    1.2.3 工艺设计的流程
    1.3 工艺设计的要求
    1.3.1 工艺设计的全局性
    1.3.2 工艺设计的成本要求
    1.3.3 工艺设计的可靠性要求
    1.3.4 工艺设计的环保要求
    1.3.5 工艺设计的可操作性要求
    1.3.6 工艺设计的可管理性
    1.3.7 工艺质量控制方法

    第2章 金属预处理及水洗技术
    2.1 金属表面预处理
    2.1.1 除油
    2.1.2 除锈
    2.1.3 酸洗
    2.1.4 水洗的作用
    2.1.5 粗化和钝化
    2.1.6 预处理质量控制
    2.1.7 预处理对化学品及工装的要求
    2.1.8 预处理设备及要求
    2.1.9 预处理设备的工艺布局
    2.1.10 工艺简化
    2.2 水洗技术
    2.2.1 单级连续一次清洗技术
    2.2.2 多级连续清洗技术
    2.2.3 连续给水清洗用水量计算
    2.2.4 间隙式多级逆流清洗技术
    2.2.5 间隙式多级逆流清洗给水量的计算
    2.2.6 连续式和间隙式给水总量比较
    2.2.7 关于清洗水水质的要求
    2.3 金属表面预处理常用工艺规范
    2.3.1 金属蚀刻前质量验收规范
    2.3.2 铝合金预处理工艺规范
    2.3.3 铜及合金预处理工艺规范
    2。3.4 不锈钢预处理工艺规范

    第3章 防蚀层制作技术
    3.1 防蚀层制作的基本要求
    3.1.1 对防蚀层的要求
    3.1.2 防蚀层制作技术简介
    3.1.3 防蚀层制作的要素
    3.1.4 抗碱防蚀材料研究
    3.2 涂装技术与干燥技术
    3.2.1 喷涂方法简介
    3.2.2 空气喷涂法的原理及特点
    3.2.3 空气喷涂主要设备
    3.2.4 喷枪
    3.2.5 喷枪的调整与使用
    3.2.6 涂装的基本要素
    3.2.7 影响涂装质量的因素
    3.2.8 涂料用量的估算
    3.2.9 喷涂常见故障及排除方法
    3.2.10 电泳涂装原理及特点
    3.2.11 电泳涂装工艺主要参数控制
    3.2.12 涂膜的干燥方法
    3.2.13 烘干设备
    3.3 刻划法防蚀层制作
    3.3.1 防蚀层的涂覆
    3.3.2 可用于刻划保护的材料
    3.3.3 防蚀层的质量检查
    3.3.4 样板的要求及制作
    3.3.5 图形刻划
    3.3.6 刻划法质量控制
    3.3.7 刻划法工艺规范
    3.4 感光法防蚀层制作
    3.4.1 防蚀层的涂覆
    3.4.2 感光图形转移质量控制
    3.4.3 感光法所需设备及材料
    3.4.4 感光防蚀层制作流程图
    3.4.5 感光法工艺规范
    3.5 丝网印刷防蚀层制作
    3.5.1 丝印防蚀层质量控制
    3.5.2 丝印后的自检与互检
    3.5.3 丝印网版制作工艺规范
    3.5.4 丝印工艺规范
    3.6 激光光刻法防蚀层的制作
    3.6.1 防蚀层的涂覆
    3.6.2 激光光刻
    3.6.3 防蚀层质量检查
    3.6.4 激光光刻工艺规范

    第4章 金属蚀刻技术
    4.1 金属蚀刻技术相关知识
    4.1.1 蚀刻前的工作
    4.1.2 关于金属蚀刻的速度问题
    4.1.3 蚀刻液选择的原则
    4.1.4 金属蚀刻过程的控制
    4.1.5 溶液体积及初始浓度的确定
    4.1.6 蚀刻液的负荷量
    4.1.7 蚀刻方式及蚀刻设备的选择
    4.1.8 蚀刻常见故障原因及排除方法
    4.1.9 金属蚀刻工序流程总图
    4.2 金属蚀刻的工艺规范
    4.2.1 铝合金蚀刻工艺规范
    4.2.2 不锈钢蚀刻工艺规范
    4.2.3 铜及合金蚀刻工艺规范
    4.2.4 钛合金蚀刻工艺规范
    4.2.5 金属化学蚀刻验收技术条件
    4.2.6 工艺规范与工艺编制的关系

    第5章 铝合金鼠标垫的设计与加工
    5.1 铝合金鼠标垫制作工艺方案的确定
    5.1.1 方案确定
    5.1.2 设计的步骤
    5.1.3 感光胶片设计方法
    5.1.4 制作方法及工艺参数的确定
    5.1.5 工艺流程
    5.2 铝合金鼠标垫的制作过程
    5.2.1 预处理工序
    5.2.2 防蚀层制作工序
    5.2.3 蚀刻工序及质量控制
    5.2.4 阳极氧化工序及质量控制

    第6章 不锈钢漏网及图文蚀刻
    6.1 不锈钢漏网蚀刻方法
    6.1.1 本例漏网要求
    6.1.2 工艺措施
    6.1.3 预处理
    6.1.4 防蚀层制作I
    6.1.5 蚀刻
    6.2 不锈钢图文蚀刻加工方法
    6.2.1 预处理
    6.2.2 阴图文防蚀层制作
    6.2.3 阳图文防蚀层制作
    6.2.4 蚀刻

    第7章 模具图文蚀刻制作
    7.1 模具图文蚀刻技术
    7.1.1 模具图文蚀刻概述
    7.1.2 皮革纹胶片拼版技术
    7.1.3 图形转移载体膜
    7.1.4 非水溶性载体膜的制作
    7.1.5 水溶性载体转移膜的制作
    7.1.6 图形转移及蚀刻
    7.2 模具图文蚀刻制作过程
    7.2.1 模具预处理
    7.2.2 图形转移
    7.2.3 修模
    7.2.4 保护与干燥
    7.2.5 显影
    7.2.6 图形转移部分常见故障的产生原因及排除方法
    7.2.7 图形转移用辅助材料及工具
    7.2.8 模具蚀刻
    7.2.9 蚀刻液的配制及常见问题处理
    7.2.10 模具文字制作
    7.2.11 模具砂纹蚀刻
    第二部分:《正版光盘——蚀刻液配方、废酸性碱性蚀刻液生产工艺及蚀刻液回收》光盘,包含以下目录所对应内容,几乎涵盖了所有这方面的内容。 
    光盘内容介绍 目录如下: 
    1、蚀刻液
    2、蚀刻法及蚀刻液
    3、用于高锰酸盐蚀刻液电化学再生的阴极
    4、电路板碱性蚀刻废液的处理方法
    5、带有蚀刻电极的等离子体寻址液晶显示器
    6、废蚀刻液重复使用的方法
    7、再生碱性蚀刻补充液的制备方法及其装置系统
    8、含有环状氟化磺酸盐表面活性剂蚀刻溶液
    9、花岗石上蚀刻字画的化学溶解液及方法
    10、废蚀刻液中铜的回收方法
    11、处理氯化铜蚀刻废液的方法和设备
    12、电子移印机专用钢模凹版蚀刻液
    13、铜蚀刻液用添加剂
    14、具有蚀刻玻璃隔离片的等离子体液晶显示器
    15、防蚀刻洗瓶溶液
    16、等离子体蚀刻设备和用这种设备制造的液晶显示模块
    17、可形成均匀蚀刻液膜的装置
    18、含镍三氯化铁蚀刻废液再生和镍回收方法
    19、蚀刻溶液,蚀刻制品和制造蚀刻制品的方法
    20、蚀刻溶液,蚀刻制品和制造蚀刻制品的方法
    21、印制线路板碱性蚀刻铜废液处理方法
    22、蚀刻液组合物
    23、蚀刻液及挠性配线板的制造方法
    24、蚀刻方法以及蚀刻液的定量分析方法
    25、含镍三氯化铁蚀刻废液的除镍方法
    26、构图铟锡氧化物的蚀刻剂和制造液晶显示装置的方法
    27、蚀刻液以及使用此蚀刻液的图案化导电层的制造方法
    28、一种铜蚀刻液组合物及其生产方法
    29、蚀刻液供应装置、蚀刻装置及蚀刻方法
    30、用于半导体晶片的碱性蚀刻溶液和碱性蚀刻方法
    31、蚀刻液管理装置
    32、蚀刻剂溶液及其添加剂
    33、具有BPSG膜和SOD膜的基板的蚀刻液
    34、碱性高锰酸盐蚀刻液的再生方法及其所用单元
    35、低蚀刻性较厚光刻胶清洗液
    36、电子智能标签化学蚀刻废液以废治废的处理和提取技术
    37、铝合金化学蚀刻液
    38、用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液
    39、一种电化学蚀刻液及蚀刻方法
    40、一种酸性蚀刻废液中有价资源的回收方法及回收系统
    41、防眩玻璃制品刻蚀液配方及蚀刻工艺
    42、平板玻璃基板减薄蚀刻液
    43、蚀刻液的处理方法与系统
    44、一种印制电路蚀刻液
    45、用于制造印制电路板的蚀刻液及蚀刻方法
    46、一种酸性蚀刻液
    47、用于铜和铜/镍层的稳定化的蚀刻溶液
    48、改进的微蚀刻溶液
    49、蚀刻液组合物与蚀刻方法
    50、膜分离技术再生蚀刻液及无排放废液的电解蚀刻机
    51、中性电解液蚀刻机
    52、旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置
    53、一种线路板蚀刻废液回收制取氧化铜或硫酸铜的装置
    54、银合金蚀刻液
    55、含镍三氯化铁蚀刻废液的再生方法
    56、铜或铜合金的蚀刻溶液以及使用该溶液的电子基板的制法
    57、蚀刻剂、补充液以及用它们制造铜布线的方法
    58、蚀刻液、其补给液、使用其的蚀刻方法和布线基板的制法
    59、用水基溶液蚀刻厚膜来制造PDP阻隔筋的方法和组合物
    60、蚀刻液回收系统与方法
    61、蚀刻液及应用该蚀刻液选择性去除阻障层的导电凸块制造方法
    62、用于蚀刻硅晶片的高纯度碱蚀刻溶液及硅晶片的碱蚀刻方法
    63、金属膜的蚀刻液组合物
    64、含镍三氯化铁蚀刻废液的萃取分离方法
    65、蚀刻液组合物
    66、可溶于光致抗蚀剂显影液的有机底部抗反射组合物及使用该组合物的光刻和蚀刻方法
    67、蚀刻液的再生方法、蚀刻方法和蚀刻系统
    68、以银为主成分的金属薄膜的蚀刻液组合物
    69、蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物制造反射板的方法
    70、蚀刻液
    71、用于多层铜和钼的蚀刻溶液及使用该蚀刻溶液的蚀刻方法
    72、蚀刻液组合物
    73、蚀刻液管理方法和蚀刻液管理装置
    74、银合金蚀刻液
    75、于薄膜晶体管液晶显示器制造过程中的蚀刻方法
    76、含镍三氯化铁蚀刻废液的再生方法
    77、热塑性聚酰亚胺树脂用蚀刻液
    78、用于线路的蚀刻液、制造线路的方法和包括此方法的制造薄膜晶体管阵列板的方法
    79、液晶显示面板前段阵列制造工艺中第一道黄光暨蚀刻方法
    80、蚀刻液和补给液以及使用它们的导体图案的形成方法
    81、用于缓冲酸蚀刻溶液的氟化表面活性剂
    82、用于含水酸蚀刻溶液的氟化表面活性剂
    83、银合金蚀刻液
    84、干蚀刻后的洗涤液组合物及半导体装置的制造方法
    85、钛或钛合金用蚀刻液
    86、酸性蚀刻液再生方法和酸性蚀刻液再生装置
    87、蚀刻系统及其蚀刻液处理方法
    88、挠性印刷电路绝缘薄膜的化学蚀刻法及其蚀刻液
    89、蚀刻溶液及利用包括该溶液的过程形成半导体器件的方法
    90、用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液
    91、用于钛及钛合金的化学蚀刻溶液
    92、用于钼的化学蚀刻溶液
    93、液相蚀刻方法及液相蚀刻装置
    94、深沟渠的制备方法及其蚀刻混合液
    95、薄膜晶体管液晶显示器的蚀刻组合物
    96、薄膜晶体管液晶显示器的蚀刻组合物
    97、利用印刷板蚀刻废液制备氯化亚铜的方法
    98、用于蚀刻铜表面的溶液和在铜表面上沉积金属的方法
    99、薄膜蚀刻方法以及使用该方法制造液晶显示器件的方法
    100、蚀刻溶液和除去低-K电介质层的方法
    101、喷淋型铝合金化学蚀刻液
    102、一种酸性蚀刻废液的高效环保处理方法
    103、再生用于蚀刻或酸蚀铜或铜合金的含铁蚀刻溶液的方法和进行所述方法的装置
    104、钛、铝金属层叠膜蚀刻液组合物
    105、从酸性蚀刻液中回收盐酸和硫酸铜的方法
    106、液晶显示器的配向膜的制造方法和在其中使用的蚀刻设备
    107、含钛层用蚀刻液以及含肽层的蚀刻方法
    108、氯化铜蚀刻废液的精制方法和精制氯化铜溶液
    109、一种铜蚀刻液及其循环使用方法
    110、印刷线路板蚀刻废液微波循环处理工艺
    111、金属选择性蚀刻液
    112、可控制结构尺寸的重力液态蚀刻方法
    113、用于生产铜饲料添加剂的印制电路板蚀刻废液的除砷方法
    114、应用腐蚀液的超声波辅助蚀刻
    115、用于半添加法印刷布线基板制造的蚀刻除去方法及蚀刻液
    116、氯化物体系线路版废蚀刻液中铜的提取方法
    117、蚀刻剂以及使用该蚀刻剂制造液晶显示器的方法
    118、蚀刻液、蚀刻方法以及印刷电路板
    119、用线路板蚀刻废液生产氧氯化铜的方法
    120、一种蚀刻废液或低含铜废水的提铜方法
    121、结合动态弯液面的无应力蚀刻处理
    122、氯化铵蚀刻液的充氧装置
    123、一种PCB酸性蚀刻废液提铜联产改性聚铁的方法
    124、蚀刻带及使用该蚀刻带制造液晶显示器的阵列基板的方法
    125、用线路板蚀刻废液生产氯化铵的方法
    126、清洁溶液和蚀刻剂及其使用方法
    127、蚀刻方法和蚀刻液
    128、同时电解再生酸性蚀刻液和微蚀液的方法
    129、铜锡电镀污泥与线路板蚀刻液联合处理方法
    130、可电解回收的蚀刻溶液
    131、利用蚀刻废液制备饲料级蛋氨酸铜螯合物的方法
    132、一种印刷线路板酸性蚀刻废液处理系统及方法
    133、铝类金属膜及钼类金属膜的层叠膜用蚀刻液
    134、光蚀刻用冲洗液和抗蚀图案形成方法
    135、光蚀刻用显影液组合物与抗蚀图案的形成方法
    136、半导体基板的制造方法、太阳能用半导体基板及蚀刻液
    137、铜蚀刻液再生循环方法及装置
    138、蚀刻液组合物
    139、酸性蚀刻废液中回收草酸铜和酸液的方法
    140、蚀刻液组合物、研磨用组合物及其制造方法以及研磨方法
    141、平板显示器玻璃蚀刻液
    142、用于去除蚀刻后残留物的水溶液
    143、薄膜晶体管液晶显示装置的蚀刻组合物
    144、光蚀刻用清洗液及抗蚀图案的形成方法
    145、碱性蚀刻液及其生产方法
    146、光蚀刻用清洗液及使用其的清洗方法
    147、铜的蚀刻液以及蚀刻方法
    148、线路板蚀刻废液回收制取氧化铜/硫酸铜的方法及装置
    149、蚀刻液喷射装置及蚀刻方法
    150、印刷电路酸性蚀刻废液回收盐酸及金属铜的方法
    151、钛、铝金属层叠膜蚀刻液组合物
    152、半导体用氟表面蚀刻液及其制备方法
    153、湿蚀刻溶液
    154、薄膜晶体管液晶显示装置的蚀刻液组合物
    155、废蚀刻液循环再生及铜的回收处理系统
    156、钯选择性蚀刻液以及控制蚀刻的选择性的方法
    157、蚀刻液的再生方法,蚀刻方法及蚀刻装置
    158、蚀刻废液的回收方法及其装置
    159、蚀刻废液的回收技术及其装置
    160、蚀刻溶液、基板的表面处理方法及形成浅沟槽隔离的方法
    161、用于基板的洗涤或蚀刻的碱性水溶液组合物
    162、印制电路板酸性蚀刻废液中砷和铁的去除方法
    163、印制电路板碱性蚀刻废液中砷的去除方法
    164、氯化铜酸性蚀刻液的再生及铜回收装置
    165、一种氯化物体系线路版废蚀刻液中提取铜的装置
    166、铜蚀刻液再生循环装置
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